Section courante

A propos

Section administrative du site

STCMH

Store Characters under Mask (high)
Assembleur z/Architecture

Syntaxe

STCMH R1,M3,D2(B2)

Paramètres

Nom Description
B2 Ce paramètre permet d'indiquer le champ de registre de base 2.
D2 Ce paramètre permet d'indiquer le champ de déplacement 2 (incluant le DH et DL pour le format de long déplacement).
M3 Ce paramètre permet d'indiquer le champ de masque 3.
R1 Ce paramètre permet d'indiquer le champ de registre destination 1.

Description

Cette instruction permet d'entreposer les caractères sous le masque de la partie haute.

Mnémonique

Instruction Opcode
STCMH R1,M3,D2(B2) EB2C


Dernière mise à jour : Vendredi, le 26 Juillet 2019